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中芯国际78亿买来低端光刻机，高端光刻机国产化还需多久？

中芯国际购买的是ASML第四代产品，也就是深紫外光刻机，技术上与ASML极紫外光刻机有云泥之别。ASML光刻机目前已发展到第五代，最小工艺是正在向5nm甚至3nm迈进。从图中可知由上海微电子研制的国产光刻机目前水平实际上已经达到了ASML第四代水平。预计今年底能够上市销售。也正因为这个原因ASML公司已经于去年降价促销其DUV光刻机，目的是要把国产光刻机封杀于摇篮中。

ASML最顶级光刻机采用了极紫外光刻机EUV技术，这是1997年Intel和美国能源部共同成立发起的EUV-LLC联盟，汇集了美国三大国家实验室并联合了摩托罗拉和AMD等企业数百位顶尖科学家共同研制此技术。当时尼康和ASML也申请加入被美国政府拒绝，最后ASML表达了忠心和让步后才获准加入。但是日本尼康被排除了，因为那时美国正在打压日本的半导体产业，如今中国取代日本遭到美国打压。

从上图可知，国产光刻机研发过程的艰难历程。事实上极紫外光刻机技术美国早在上世纪末就开始了研发，中国目前的差距大约有二十年，不过按照中国人研发的决心与投入，这个差距可以缩小十年。虽然中芯国际大量购买了ASML光刻机，但是为了能让国产光刻机有活路，国家最新出台了阻断法案。全称是《阻断外国法律和措施不当域外实施办法》。

按照此法律要求，未来凡是在中国境内有业务开展的一些实体包括个人因为要遵守其他国家或其他一些法律禁令，那么在中国境内从事选择性、歧视性的商业活动对中国实体或者个人造成损害的都受到这一法律的管辖。简言之，两条路，要么申请中国商务部的豁免，要么就选择退出中国市场。这意味着中国并不打算长久使用ASML光刻机，目前仅仅是一个过渡阶段。

其实摆明了就是要求ASML如果你不打算卖我EUV光刻机，那么等到国产DUV光刻机研发成功后，你就必须全面退出中国市场，因为中国虽然暂时研发出EUV光刻机还有难度，但是你的深紫外DUV光刻机我也不打算要了，即使比中国最新的国产光刻机质量好，我也不要，因为中国要扶植自己的光刻机企业去突破EUV技术难关就不能让中国的光刻机市场被ASML霸占。

此项法律并不仅仅局限于光刻机。台积电的芯片制造以及高通芯片等都将面临是否退出中国市场的选择，这是中国破釜沉舟的巨大决心体现，我的地盘我做主，决不允许国外企业吃你的饭还砸你的锅这样的事情发生。中国要发展必须解决卡脖子问题，要想不被卡脖子只有横下一条心背水一战，依靠自己攻坚克难，除此别无他路。建国以来几十年风风雨雨，比芯片更大几十倍的困难都熬过来了，中国人是不会被美国的威胁吓倒的，过去不会，现在不会，将来更不会，敢问路在何方，路在脚下！。